薄膜化的离子导体。它不仅可以克服多数离子导体的离子电导率比较低的缺点,而且便于使固体离子器件小型化,同时还可能具有与块料不同的特性,因而引起人们的重视。太薄的膜容易出现贯穿薄膜的微小孔道即针孔缺陷,影响使用;而太厚的薄膜又与块料的性能差不多,因此离子导体薄膜的厚度通常在1~20μm之间。除常用的真空淀积、化学蒸发淀积和喷镀等薄膜制备方法。
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薄膜化的离子导体。它不仅可以克服多数离子导体的离子电导率比较低的缺点,而且便于使固体离子器件小型化,同时还可能具有与块料不同的特性,因而引起人们的重视。太薄的膜容易出现贯穿薄膜的微小孔道即针孔缺陷,影响使用;而太厚的薄膜又与块料的性能差不多,因此离子导体薄膜的厚度通常在1~20μm之间。除常用的真空淀积、化学蒸发淀积和喷镀等薄膜制备方法。