作者：（比）克拉艾（Claeys，C.），（比）西蒙恩（Simoen，E.） 著，刘忠立译
ISBN：10位［7118054089］ 13位［9787118054088］
出版社：国防工业出版社
出版日期：2008-3-1
定价：￥55.00 元
内容提要本书在介绍辐射环境、空间应用器件的选择策略以及半导体材料和器件的基本辐射效应机理的基础上，介绍IV族半导体材料、GaAs材料、硅双极器件以及MOS器件的辐射损伤，接着介绍了基于GaAs材料辐射加固的场效应晶体管及空间应用的光电子器件，最后对先进半导体材料及器件的应用前景进行展望。
本书特别强调辐射效应的基本物理，介绍的内容反映当前半导体材料及器件辐射效应和辐射加固技术研究的最新进展，对于相关领域的研究及应用均具有重要的参考价值。
本书适合于从事空间技术及高能物理研究和应用，以及从事辐射加固半导体器件及制造等领域的广大科技人员阅读，也可以作为相关领域研究生及大学生的教学参考书。
目录符号表
希腊符号表
第1章辐射环境及器件选择策略
1.1 引言
1.2 辐射环境
1.2.1 空间环境
1.2.2 高能物理实验
1.2.3 核环境
1.2.4 天然环境
1.2.5 加工工艺引入的辐射
1.3 器件选择策略
1.4 小结
第2章半导体材料及器件的基本辐射损伤机理
2.1 引言
2.2基本损伤机理
2.2.1 计量单位
2.2.2 电离损伤
2.2.3 位移损伤
2.3 辐射损伤对器件特性的影响
2.3.1 电离损伤
2.3.2 位移损伤
2.4微观辐射损伤的谱学研究
2.4.1 电子顺磁共振（EPR）
2.4.2 深能级瞬态谱（DLTS）
2.4.3 光致发光谱（PL）
2.5 小结
第3章Iv族半导体材料中的位移损伤
3.1 引言
3.2 硅的位移损伤
3.2.1 硅的辐射缺陷
3.2.2 辐射缺陷对硅器件的影响
3.2.3 衬底及器件的加固
3.2.4 硅辐射缺陷的小结
3.3 锗的位移损伤
3.3.1 Ge的潜在应用
3.3.2 Ge的低温辐照
3.3.3 Ge的室温辐照
3.3.4 辐射损伤对Ge材料及器件的影响
3.3.5 Ge辐射缺陷的小结
3.4 SiGe合金的位移损伤
3.4.1 SiGe材料的性质及应用
3.4.2 SiGe的辐射损伤
3.4.3 SiGe加工工艺引入的辐射损伤
3.4.4 SiGe器件的辐射损伤
3.4.5 SiGe合金辐射损伤小结
3.5 Ⅳ族半导体总的小结
第4章GaAs的辐射损伤
4.1 引言
4.2基本符号及定义
4.3 GaAs中原生的及辐射引入的点缺陷
4.3.1 GaAs中的原生点缺陷
4.3.2 GaAs中的基本辐射缺陷
4.3.3 GaAs中中子及离子引入的辐射缺陷
……
第5章硅双极工艺的究竟辐射效应
第6章硅MOS器件的辐射损伤
第7章基于GaAs的辐射加固效应晶体管
第8章用于究竟的光电子器件
第9章先进半导体材料及器件的前景展望
参考文献
