光敏高分子成像材料

王朝百科·作者佚名  2010-05-25
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photo-sensitive polymeric image material

是一类在光照下发生光敏聚合或光敏降解的高分子材料。

利用曝光与未曝光部分的化学和物理性质的不同,再经进一步的加工过程(定影、显影),在基体上得到与原图相同的正像或负像的影像结构。

是非银盐成像材料的一个重要品种。通常由一种或多种光活性化合物和高分子成膜材料构成。

负像成像用光敏聚合及光敏交联法,如自由基光聚合和光引发的阳离子聚合。正性成像则是使曝光部分有更好溶解度,光解产物容易被洗去。另一方法是光敏降解,采用的是丙烯酸酯类及其共聚物。

已用于大规模集成电路的制作,光刻制板印刷、可读写式光盘等。

 
 
 
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