蚀刻液(PAE) 成分:H3PO4:HNO3:HAC:H2O=16:1:1:2
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适用于IC厂.TFTLED制造.晶体二级管.多硅太阳能电池制造.
上海华谊微电子材料有限公司 021-56846715-1009
邮箱:lhf1009@semchem.com.cn
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