概念MOS级化学试剂是“金属-氧化物-半导体”(Metal-oxide-semiconduceopr)电路专用的特纯试剂的简称,是为适应大规模集成电路(LSI)的生产而出现的一个新的试剂门类。定义它属于生产金属氧化物半导体电路专用的化学品,是一种高纯试剂。其纯度要求单项金属离子杂质含 量均在10-7%~10-9%范围内。而更重要的是控制产品内微粒杂质(即尘埃和不溶颗粒)的个数,应当符合美国材料试验学会(ASTM)“0”级标准,即对5~10微米大小的颗粒,每100毫升中最大允许在2700个以下,而对5微米大小的颗粒,要求在304个以下。用途MOS试剂主要用于大规模、超大规模集成电路的研究和生产。