图书信息书
名: 微电子制造技术概论
作者：严利人
出版社：清华大学出版社
出版时间： 2010-3-1
ISBN: 9787302208181
开本： 16开
定价: 19.00元
内容简介本书介绍和描述了集成电路工艺制造的成套工艺流程和各工艺单步的技术内容。对于流程的介绍，除举例和说明一般性流程特点之外，专有一章说明了流程调度实施的技术与算法；对于各工艺单步，首先根据各单项工艺技术的作用进行了粗略分类，在此基础上，从工艺原理、工艺设备技术特点、实践操作等不同侧面，进行了略做扩展的描述。
本书可作为集成电路制造相关专业的本科生和研究生教材，也可供相关专业人士参考。
作者简介严利人，先后从事集成电路工艺参数测试、氧化扩散、光刻、工艺设备、流程管理等VLSl制造实践工作。目前主要的研究方向为工艺分析诊断、光刻工艺设备及工艺技术、VLSl自动化制造等，并在VLSl自动化制造系统的研究和工艺流程开发规律、自动流程卡生成、高效率工艺调度等方面取得阶段性成果。
图书目录第1章 集成电路制造技术概论
1.1 集成电路的发展历史与趋势
1.2 微结构的概念
1.3 微结构制造流程举例
小结
参考文献
第2章 新材料生成类工艺
2.1 化学气相淀积
2.2 物理淀积
2.3 硅外延和多晶硅的化学气相淀积
2.4 化学气相淀积SiO2薄膜
2.5 化学气相淀积氮化硅薄膜
2.6 金属化
2.7 薄膜的台阶覆盖
2.8 薄膜测量
2.9 真空技术
小结
参考文献
第3章 改变材料层属性的工艺（I）
3.1 热氧化
3.2 杂质扩散
3.3 离子注入
3.4 金属硅化物
小结
参考文献
第4章 改变材料层属性的工艺（II）
4.1 刻蚀
4.2 刻蚀设备
4.3 刻蚀机的操作编程
4.4 其他的材料去除工艺
小结
参考文献
第5章 定位工艺技术
5.1 光刻工艺过程
5.2 曝光原理
5.3 光刻机的结构组成
5.4 光刻机的使用维护
5.5 其他光刻工艺设备
小结
参考文献
第6章 流程运行调度技术
6.1 调度问题概述
6.2 流水线式调度
6.3 流水线式调度特点及应用的讨论
小结
参考文献
第7章 新颖性工艺技术前瞻
7.1 SiGe材料、器件与电路
7.2 应变硅材料与器件
7.3 ALD工艺技术
7.4 激光退火与超浅结制作
小结
参考文献
