介绍
ATO主要由氧化锡和氧化锑成分来构成，粒径大部分在20-80纳米。
氧化锡和氧化锑的不同比例所决定不同的性能和应用领域。
广泛应用于半导体、电子显现管、LED、节能环保（隔红外，隔紫外）、防静电、防辐射等领域。
其主要成分比例为SnO2：Sb2O3=90：10或SnO2：Sb2O3=95：5为比较常见。
物理特性
指标名称
ATO-P100
外观
蓝色粉体
成份
锑锡氧化物
比表面积
50㎡/g
配比
SnO2：Sb2O3=95：5或其他配比
比重
压实密度：2.0 g/cm3
比电阻
30Ω.cm2（压块）
纯度
≥99.95%(基于金属杂质)
特性
导电性
均匀分散的导电纳米超微粒子的相互作用形成导电膜，导电膜中电荷移动可实现高透射率和防静电（30Ω.cm2）
透明性
ATO纳米超微粒子对可视光（380nm-780nm）的吸收率极弱，而且对可视光难以散射的大小粒子组成，所以有着高的透明性
隔红外、隔紫外、防辐射性能
能有效地阻止红外辐射和紫外线辐射，阻隔红外效果达80%以上，阻隔紫外效果达65%以上。
应用领域
真空磁控溅射靶材
装饰和功能镀膜工业 Decorative & coatings
利用物理或者化学气相沉积镀膜，使工件增加防静电性能能，防辐射性能等。
建筑玻璃/汽车玻璃工业、柔性卷绕镀膜工业
用于大面积磁控溅射镀膜，如建筑玻璃，汽车玻璃，低辐射玻璃，薄膜太阳能电池、ATO Film等工业，增加隔热性能、隔紫外性能、防辐射性能、防静电性能等。
光学镀膜工业
适用于TFT，FED，PDP, OLED和CF（彩色滤光片）等各种显示器基础元件的镀膜及大规模集成电路镀膜领域。
