衬底抛光设备,其将诸如半导体晶片的衬底表面抛光至平坦镜面光洁度。根据本发明的衬底抛光设备包括:可旋转工作台(12),其具有用于抛光半导体衬底(18)的抛光垫;光发射和接收装置(80,82),其用于发射测量光,以使之穿过设置在抛光垫(16)上的通孔到达半导体衬底(18),并且接收来自半导体衬底(18)的反射光,以便测量该半导体衬底(18)上的薄膜;以及供给通道(44),其用于向测量光的通道供应流体。该供给通道(44)具有设置在通孔(84)中的出口部分。
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衬底抛光设备,其将诸如半导体晶片的衬底表面抛光至平坦镜面光洁度。根据本发明的衬底抛光设备包括:可旋转工作台(12),其具有用于抛光半导体衬底(18)的抛光垫;光发射和接收装置(80,82),其用于发射测量光,以使之穿过设置在抛光垫(16)上的通孔到达半导体衬底(18),并且接收来自半导体衬底(18)的反射光,以便测量该半导体衬底(18)上的薄膜;以及供给通道(44),其用于向测量光的通道供应流体。该供给通道(44)具有设置在通孔(84)中的出口部分。