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雾缺陷

王朝百科·作者佚名 2010-01-10

半导体硅材料表面的一种微缺陷。是硅抛光在-100度高温处理后，再用化学腐蚀在表面出现的高密度腐蚀坑，使光滑的表面变成雾状，因此得名。

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