中文名称：阿斯麦（中国大陆），艾司摩尔（中国台湾）
公司简介ASML (全称: Advanced Semiconductor Material Lithography, 目前该全称己不做为公司标识使用，公司的注册标识为ASML Holding N.V)， 是总部设在荷兰Veldhoven的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。2006年，其全球净销售收入超过35亿欧元。ASML在欧洲、亚洲及美国的50多个地区拥有6000多名员工 （其中欧洲约３５００，亚洲约１０００， 美国约１５００）。在2007年6月，VLSI公布的全球最佳芯片制造设备供应商榜上，ASML排名第二。 2007财政年销售收入为56亿美元（38亿欧元），增长了5.9%。同期净收入增长了10.1%，达到了10亿美元。净收益占销售收入的18.1%，而在2006年为17.4%。
中国分公司地址：上海市张江高科技园区松涛路560号A栋17楼
公司网址： www.asml.com
产品和服务ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，例如英特尔(Intel)，三星(Samsung)，海力士(Hynix)，台积电(TSMC)，中芯国际(SMIC)等。
目前已经商用的最先进机型是Twinscan XT 1950i，属于沉浸式光刻机，用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路.
市场份额目前市场上提供量产商用的光刻机厂商有三家：ASML, 尼康(Nikon)，佳能(Canon)。 根据２００７年的统计数据，在中高端光刻机市场，ASML占据大约60%的市场份额。而最高端市场（例如沉浸式光刻机），ASML大约目前占据80%的市场份额。不过，竞争对手尼康也在奋力追赶，主要优势在于相对较低的价格。
技术前景除了目前致力于开发的TWINSCAN平台外，ASML还在积极与IMEC, IBM等半导体公司合作，开发下一代光刻技术，比如EUV（极紫外线光刻），用于关键尺度在２２纳米甚至更低的集成电路制造。目前ASML已经向客户递交若干台EUV机型，用于研发和实验。同时，基于传统TWINSCAN平台的双重曝光等新兴技术，也在进一步成熟和研发过程当中。０７年末三星(Samsung)宣布成功生产的３６纳米闪存，基于的便是双重曝光技术。
ASML在中国ASML一直致力于中国市场的拓展与合作，包括香港在内目前已经在北京，上海，深圳，无锡等地开设分公司，为客户提供及时的服务和咨询。随着公司业务的扩大和中国半导体产业的发展，相信大连，成都，重庆，武汉等新兴的半导体基地也会纳入ASML的版图之内。ASML有信心和中国半导体从业者一道，为技术创新和市场拓展开辟道路。目前ASML已经与浙江大学，大连理工大学，哈尔滨工业大学，上海交通大学等著名高等学府签定奖学金及科研合作协议，为培养和吸引本地人才，做出自己的一份贡献。
睿初(Brion)科技www.brion.com
ASML于０７年正式完成对睿初(Brion)科技的收购，使之成为旗下重要一员。睿初科技是建立在美国硅谷的高科技公司，致力于计算光刻等方面的服务，用于检测光刻缺陷及提出相应修正解决方案，在同行业中处于领跑位置。 睿初科技总部位于加州Santa Clara, 在中国地区总部位于深圳。
