应用表面物理国家重点实验室
◆ 性质： 国家级
◆ 服务领域： 新型半导体器件和材料有关的表面及界面问题研究
◆ 主要成员： 实验室主任侯晓远(教授)
学术委员会主任王迅(教授)
◆ 依托单位： 复旦大学
◆ 主管单位： 教育部
实验室密切注视国际学术界发展的新动向，适时拓展研究方向。开展了计算凝聚态物理、表面物理与工程、半导体光电子物理、表面与超薄膜磁性、光子晶体等五个方面的研究工作。主要研究内容包括：表面界面与电子态声子态理论，微结构和介观体系理论，化合物半导体表面的结构与电子态，半导体异质界面，用STM/AFM研究表面结构，硅基光电子材料与低维量子结构，宽禁带半导体光电子材料与物理，磁性材料-半导体异质结构，磁性超薄膜与多层膜物理，光子晶体的特性和应用，同步辐射在表面研究中的应用。自建成以来，已取得了一批为国内外学术界关注的研究结果。其中具代表性的有：成功地用分子束外延方法生长出Ge/Si 量子点；生长出高质量的Ge/Si， GeSi/Si超晶格；首次实现了多孔硅的蓝光发射，以及贯彻到多孔硅的红外上转移现象；利用导纳谱方法在液氮温度下观察到空穴逐个填充到Ge量子点中去的库仑荷点效应；提出了Fe/Cu (001)的自旋密度波磁结构模型；创造了多种Ⅲ-V族化合物表面钝化方法，并申请了3项国家专利。实验室每年在包括Phys.Rev.Lett.,Phys.Rev.B.,Appl.phys.lett.等的国内外学术刊物上发表文章七十余篇。并多次获得国家教委和上海市科技进步奖以及其他基金组织颁发的奖项。目前，45岁以下的青年教师占了实验室教师人数的60％，其中 有5人获得国家杰出青年科学基金。实验室浓郁的学术氛围和良好的科研环境也吸引了大批学生来室攻读博士或硕士学位。毕业研究生应具有扎实的基础知识和动手能力，受到国内外各单位的欢迎。
