品牌：迈克·A.力伯曼(Michael A.Lieberman)
基本信息
·出版社：科学出版社
·页码：585 页码
·出版日：2007年
·ISBN：9787030186591
·条码：9787030186591
·版次：2007年3月第1版
·装帧：平装
·开本：16开 16开
内容简介
本书全面深入地介绍等离子体物理和化学的基本原理，以及工业等离子体材料处理的原理，并应用基本理论分析各种常见等离子体源的放电状态。书中还介绍半导体材料的刻蚀、薄膜沉积，离子注入等低温等离子体在材料处理方面的应用，反映本领域的最新研究进展。全书共18章，内容包括等离子体的基础知识、等离子体放电过程中的粒子平衡和能量平衡、容性和感性放电、波加热的气体放电、直流放电、刻蚀、沉积与注入、尘埃等离子体，以及气体放电的动理论等。
本书可供等离子体物理领域的研究生、技术人员，以及微纳电子领域的科技研发人员参考学习。
作者简介
迈克尔·A·力伯曼，博士，加利福尼亚大学伯克利分校电子工程研究生院教授，曾发表170多篇有关等离子体、等离子体材料处理和非线性动力学方面的研究论文，而且同里登伯格教授合著有Regular and Stochastic Motion和Regular and Chaotic Dynamics（第二版）。
编辑推荐
本书全面深入地介绍等离子体物理和化学的基本原理，以及工业等离子体材料处理的原理，并应用基本理论分析各种常见等离子体源的放电状态。书中还介绍半导体材料的刻蚀、薄膜沉积，离子注入等低温等离子体在材料处理方面的应用，反映本领域的最新研究进展。全书共18章，内容包括等离子体的基础知识、等离子体放电过程中的粒子平衡和能量平衡、容性和感性放电、波加热的气体放电、直流放电、刻蚀、沉积与注入、尘埃等离子体，以及气体放电的动理论等。
本书可供等离子体物理领域的研究生、技术人员，以及微纳电子领域的科技研发人员参考学习。
目录
第1章概述
1.1材料处理
1.2等离子体和鞘层
1.2.1等离子体
1.2.2鞘层
1.3放电
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