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品牌:刘春艳
基本信息
·出版社:化学工业出版社
·页码:154 页码
·出版日:2008年
·ISBN:7122016838/9787122016836
·条码:9787122016836
·版次:1版
·装帧:平装
·开本:16 16
·中文:中文
内容简介
本书在定义光催化反应、光催化剂概念的基础上,阐述了光催化剂设计、制备与修饰基础;光催化反应的基本机制,包括光催化剂的工作原和反应过程动力学。对半导体表面光诱导电荷过程、金属-半导体纳米结构界面的光诱导过程做了比较深入的介绍。在此基础上,结合环境发展的需求,重点介绍了光催化研究领域的前沿和光催化环境净化材料的应用市场,反映了该领域科研关注的问题和工业应用反馈的信息。
目录
第1章 非均相光催化
1 基本概念
1.1 光催化反应及光催化剂
1.2 光催化反应的类型
2 半导体的光催化反应机制
2.1 带隙激发
2.2 去活化过程
2.3 半导体光催化反应机理
2.4 反应过程动力学
2.5 影响光催化反应的因素
参考文献
第2章 光催化剂
第3章 一维纳米结构
第4章 光催化剂的表面修饰
第5章 孔洞结构的微纳米TiO2
第6章 光催化的应用
第7章 光催化环境净化材料
第8章 高级氧化反应
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