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可以站着生,何必躺着死?——垂直记录技术揭秘

王朝other·作者佚名  2008-06-01
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磁霸!垂直记录热度渐升

能将磁盘密度提高10倍的垂直记录大概是近期最受人们关注的硬盘技术了,本站也一直酝酿着对其进行较为具体的介绍。不过,对于这种涉及到磁记录原理的技术,仅靠抽象的文字描述是很难让人真正理解的,恰逢日立为我们提供了图文并茂的演示材料,特经过加工后充实到原以枯燥铺叙为主的技术性文章中登出,以飨读者。对了,本页下方还有一个名为“Get Perpendicular”的Flash,绘声绘影,很有趣哦!

本周北京的气温已冲上38℃,不过与关心硬盘技术的人们对垂直记录的热情相比恐怕仍略逊一筹。IDC在其最新的非凡报告中指出,垂直记录(Perpendicular Recording)技术将主宰硬盘工业,并成为硬盘当前的发展大势。此项技术及其配套的新磁头和盘片会于2005年底开始被采用,预计在2007年底被广泛投入生产。据IDC猜测,在2009年使用垂直记录技术的硬盘将达到六亿三千万部,成为雄霸市场的新技术。

垂直记录技术的应用将直接改变磁头和盘片的结构,因此与富士通(Fujitsu)、迈拓(Maxtor)、三星(Samsung)和西部数据(WD)相比,两家采取“垂直整合”业务模式的厂商——日立(Hitachi GST)和希捷(Seagate)——对于何时开始在量产的硬盘中采用该技术无疑更有发言权。继日立公布开发出具有每平方英寸230Gb垂直录写的业界最高数据密度之后,希捷也发布了第一款采用垂直记录技术的2.5英寸硬盘。

当然,随便说说都很简单,能否率先供货才见真本事。日立预计其首款2.5英寸垂直记录硬盘将在2005年开始上市,希捷的Momentus 5400.3则把时间定在了2006年第一季度。既然产品上的胜败急切还难见分晓,先做些知识普及工作也是很有意义的。

6月21日,日立环球存储科技(Hitachi Global Storage Technologies,HGST)公司在北京召开了垂直记录技术媒体交流会,专程赶来的公司产品战略与营销高级副总裁Bill Healy和全球尖端科技高级总监高野公史(Hisashi Takano)与国内各专业媒体的代表就垂直记录技术进行了交流。

日立环球存储科技公司产品战略与营销高级副总裁Bill Healy展望硬盘发展趋势

这种会议的开头照例都是要展望一下发展趋势的,Bill Healy先生向我们出示了IDC关于消费电子硬盘的最新猜测:在2008年之前,消费电子硬盘的出货量将会增长到全部硬盘的30%,年复合增长率(CAGR)达40%。

IDC对消费电子硬盘发展的猜测

业界这么看好硬盘在消费电子设备中的前景,很大程度上是因为看到了移动电话等手持设备对大容量存储的需求。可是,面对闪存的竞争,硬盘的抗冲击能力已经处于下风,速度也不算快,假如不能在体积基本相当(也就是说,尺寸要尽可能地小)的前提下发挥容量优势,显然不会有多少胜算。目前1英寸硬盘容量已经做到了6GB,年底能达到8~10GB,而要再继续发展的话,现有的纵向记录(Longitudinal Recording)技术已经接近极限,就必须得垂直记录技术出马了。

日立专门制作了一个有趣的Flash以形象地说明垂直记录的原理(请放出声音欣赏)

温习!硬盘原理和结构

看起来日立对与媒体的技术交流很有经验,他们似乎很清楚并不是每个人都了解硬盘的原理和结构,而这是谈论垂直记录最基本的前提。本站不久前曾经图文并茂地介绍过硬盘的构造,不过里面所用的基本上都是实物图片,太过具体,恰好此次日立提供的图更接近原理性质,可以帮助读者增进对硬盘构成的了解。需要注重的是,对于某些部件的称呼两者略有出入,稍加对比便可分清。

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说是“硬盘的构成”,磁头和盘片的关系才是真正的主角

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组成硬盘的主要部件基本都标出来了

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这张图把磁头和盘片的结构展现得很清楚

上面三张图介绍的都是硬盘最基本的原理和结构,与纵向记录还是垂直记录没什么关系。随着技术的不断进步,硬盘呈现出尺寸越变越小的趋势。

自从问世以来,硬盘尺寸变小的步伐就没有停止过

当然,硬盘尺寸的减小是个循序渐进的过程,因此多种尺寸规格的硬盘并存是很常见的现象。

从上至下依次是1英寸微硬盘Mikey、超薄(5mm厚)1.8英寸硬盘和2.5英寸硬盘

显然,随着硬盘尺寸的缩小,所有组件也都同步变小。

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即使硬盘尺寸不改变,磁头和磁单元也要不停地变小,否则存储面密度无法提高

在硬盘尺寸小到一定程度,或者存储面密度提高到一定水平之后,问题就出现了。

瓶颈!垂直记录取代纵向记录

磁记录的存储面密度在经过10年左右的高速增长之后,碰到了发展的瓶颈——“超顺磁性”效应。

2003年以前的10年是磁记录密度增长最快的时期

多年以来,硬盘一直采用磁场的磁化方向与盘片表面平行的纵向记录技术:硬盘的盘片可以看作是一个二维的平面,磁单元沿着盘片旋转的方向排列,磁极相邻,首尾相接(即“纵向”——Longitudinal)顺序从磁头下方通过。整整一圈下来,就是一个磁道,盘片上的所有磁道都是同心圆。

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纵向记录技术采用磁化方向平行于盘片表面的磁场

存储面密度的提高,就意味着代表每个bit的磁单元和组成它的磁粒的体积(主要是在盘片表面上所占的面积)要相应减小,其所具有的能量自然随之下降,发展到一定程度之后,只需要很小的能量——譬如室温下的热能——就可以将磁粒翻转(磁单元保存的数据便被破坏,无法再正确地读出),这就是所谓的“超顺磁性”效应(Superparamagnetic Effect)。为了避免磁粒在室温下自动反转磁路,可以使用具有高矫顽力(将其反转需要较多的能量)的材料作磁层以提高热稳定性,但这样又会给磁头正常的改写数据带来困难。

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由于超顺磁性效应的影响,即使硬盘处在正常的环境下,所保存的数据也会随着时间的推移而逐渐丢失

需要指出的是,超顺磁性效应对硬盘正常工作的影响并非最近才开始显现,早在2001年IBM就推出了AFC(Anti-Ferromagnetic-Coupled,反铁磁体耦合)介质来对抗超顺磁性效应。这种被称为Pixie dust(仙女之尘)的技术采用了一种三明治结构,即两个磁层中间夹着一层厚度只有3个原子左右的稀有金属(钌)层,上下两层对应位置的磁粒具有相反的磁路方向,彼此互相稳定。

传统磁介质(左)与AFC介质(右)的对比。RU layer即钌层,其所形成的夹层结构无疑比单纯增加磁层厚度更为有效

在出售给日立之前,IBM的全线硬盘产品就都已经采用了AFC介质盘片。其他的厂商也运用了类似的技术,差别只在于商品化的名称和层数(3层或5层,后者是两个钌层中间又夹着一个磁层),譬如富士通的SFM(Synthetic Ferrimagnetic Media,合成铁氧体介质)。

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除了磁路方向由水平转为垂直,垂直记录与纵向记录的共同点还是很多的

夹层结构在磁层厚度上做文章的思路很好,不过随着磁单元和组成它的磁粒在盘片上所占的面积越来越小,磁路方向上的长度也越来越短,保持稳定的难度与日俱增。因此,垂直记录技术干脆将对厚度的利用发挥到了极致:磁单元的磁路方向改变90°——不是在盘片平面范围内,而是与平面相垂直(Perpendicular)——正如第一页下方的Flash所形象描述的,一直躺着的磁单元忽然站起来了!这样一来,磁单元在盘片上所占的面积可以继续减小,而在磁路方向上的长度(已变成磁层厚度)却能够保持不变甚至适当增加,从而保证了热稳定性。正所谓“躺着死,站着生”是也……

垂直记录技术的磁单元在磁头的作用下反转磁极的示意图

由于磁单元的磁路方向发生了90°的大转变,写入磁头的构造肯定要进行相应的改动,以产生磁化方向垂直于盘片表面的磁场。垂直记录的磁头设计很巧妙:其信号极(Signal Pole)很窄,磁通量密度较高,足以使通过它下面的磁单元发生磁路反转;返回极(Return Pole)很宽,磁通量密度较低,因此它下面的磁单元是相当安全的。当然,介质更是必须要大动手术的——不仅磁层(硬记录层)会变厚,其下增加的软磁底层还有助于改善写入时的稳定性。

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纵向记录与垂直记录对比

垂直记录的另一个好处是,相邻的磁单元磁路方向平行,磁极的两端都挨在一起,虽然不像前述的夹层结构那样上下两层间形成反向耦合,但与纵向记录相邻的磁单元只在磁极一端相接的情况比起来,互相稳定的效果还是较为明显的。

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更多的请看:http://www.qqread.com/windows/2003/index.Html10倍!垂直记录的未来发展

对于包括日立在内的各硬盘相关厂商在垂直记录技术上的进展,本站已经有过诸多报道,此处不再重复。在本次技术交流会上,日立方面对他们所取得成果进行了较为具体的介绍。

日立环球存储科技公司全球尖端科技高级总监高野公史从1998年开始治理垂直记录项目

日立的垂直记录硬盘从2004年12月开始接受现场测试,硬盘性能高于预期,“性能数据类似于我们通过一个成熟硬盘得到的测试结果”,没有硬错误(如数据丢失),软错误(磁头试图在首次失败之后再次读取数据)极少,数据读写速率也没有降低。

日立的相关人员已经在日常工作中用上垂直记录硬盘啦——羡慕吗?风险其实也挺大的

IDC在最新的非凡报告《2005年硬盘市场:零件技术与业务模式》中对垂直记录技术进行了猜测,指出:

2009年使用垂直记录技术的硬盘将达到六亿三千万部,成为雄霸市场的新技术。

到2008年,小型硬盘(2.5英寸以下)将占据硬盘产量的46%以上,其中大多数会利用垂直记录的技术优势来满足容量需求。

对整个硬盘行业的发展进行猜测,可发现垂直记录将成为2004~2008年达到IDC猜测的15.5%年复合成长率的主要推动因素。

在5年内,产品磁盘密度将会达到目前技术下磁盘密度的四至五倍;在10年内,垂直记录(包括混合方法)会使磁盘密度达到目前技术下磁盘密度的十倍的水平。

垂直整合式公司将可较顺利地引入垂直记录及其它新技术,其引进成本也较低,不过却要自行承担研发支出。

必要的投资额的增长(例如,研发开销、新生产能力)将会引起更进一步的业内合并。

垂直记录是未来硬盘行业发展的要害;各家公司能否成功过渡,是企业能否成功发展的决定因素。

日立利用垂直记录技术实现230Gb/in2磁记录密度的演示

IDC存储技术研究总监David Reinsel表示:“企业引进垂直记录及其它新技术,需要重新审阅现有的业务模式、合作伙伴和发展策略。这意味着企业需要增加产品研发和新生产设备等方面的投资,也将促进业界的进一步整合。”通过采访不同领域的专家,并汲取他们的专业意见,IDC还为硬盘生产商和零件开发商提供了至2015年在磁记录密度提升及业界的整合情况等方面的建议,包括:

垂直整合式公司将可较顺利地引入垂直记录及其它新技术,其引进成本也较低,不过却要自行承担研发支出。

绝大部分小型硬盘在2008年均会采用垂直记录技术以满足存储容量的需求。

间接传动弹性臂技术的用途有限,预计不会被大规模采用。

垂直记录技术将在5年内使磁碟密度提升至现有的4至5倍。

GMR CPP磁头将会在Femto(飞米)或TMR磁头之后推出,预计将于2007年问世。

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虽然有了垂直记录技术,但未来几年磁盘的存储面密度发展仍将趋缓

Bill Healy先生表示,采用垂直记录技术后,硬盘的存储面密度的年增长率(CGR)将在40%左右(以此速度计算,垂直记录大约可以发展7年)。本站记者据此问道,假如未来几年闪存的容量以每年100%的速度增长,微硬盘所面临的压力会不会比较大?他十分乐观地认为,即使如此,闪存在容量和成本上也无法与微硬盘竞争(日立坚持不推出小于1英寸的硬盘很可能与这种思路有关)。

正如我们在前面所说的,无论采用纵向记录还是垂直记录,硬盘的基本原理和结构都不会发生改变。垂直记录所带来的技术变革主要发生介质(盘片)、磁头和读写电子器件上,硬盘的生产线没有另起炉灶的必要。即使是磁头,也不一定完全重新设计,因为磁头的读取和写入部分是相对独立的,与纵向记录相比,垂直记录使磁头的写入部分构造改变较大,但读取部分现在仍可以用Cip(Current-in-Plane,电流方向在平面内)模式的GMR读取头,是否需要改用TMR(Tunnel Magneto-Resistance,隧道磁阻)或CPP(Current-Perpendicular-to-Plane,电流方向垂直于表面)模式的GMR读取头主要取决于存储面密度的发展,和垂直记录并无必然联系。

日立最后对“垂直记录技术带来的可能性”进行了展望:

首批产品的磁录密度接近150Gb/平方英寸(2005~2006)——实现160GB的移动硬盘和15GB的微硬盘;

230Gb/平方英寸(2007~2008)——实现1TB的台式电脑硬盘和20GB的微硬盘;

理论表明垂直技术可以被扩展到大约500Gb/平方英寸——实现½TB 2.5英寸硬盘和40GB微硬盘。

在垂直记录技术之后,晶格介质(Patterned Media)和热辅助磁记录(Heat Assisted Magnetic Recording,HAMR)将会把数据密度提高到1Tb/平方英寸以上,实现TB级的移动硬盘和大约100GB的微硬盘,从而可以在一个外型小巧的机顶盒中内置整个HDTV视频库,或是在一部移动电话中存储数千小时的音乐和多部电影。

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晶格介质(左侧框中靠右的部分)将把磁记录密度提高到每平方英寸1Tb以上

现在代表1 bit的磁单元由大约100个磁粒所构成,而晶格介质要做到的是每个磁粒代表1 bit,大大提高了存储面密度。随着磁单元的进一步减小,必须要采用高矫顽力的材料做磁层,由于其非常难以写入,所以要在写入时用激光照射加热,写入线圈在高温的辅助下将磁路反转,即热辅助磁记录。希捷也在几年前就开始研究HAMR,不过这种技术要进入实用阶段,恐怕要到2010年以后了。

热辅助磁记录技术利用新的、非常难以写入的介质,这种介质往往可以更加稳定地写入数据磁介质。通过加热介质记录数据,利用热能简化数据的写入,但是在常温下存储和读取数据。与晶格介质类似,它可以将区域密度提高到Tb/平方英寸级别,并很可能与晶格介质配合使用。

 
 
 
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