美研制出新型光刻机

美国英特尔公司、IBM公司和摩托罗拉公司以及美3个国家实验室共组的集团，最近推出划时代的新超紫外线光刻芯片制造设备。

这个集团日前在美国加州的桑迪亚国家实验室（SNL）正式展示这部生产机器原型，期望它带动芯片业下个阶段的增长。由这些公司集资逾2.5亿美元研发成功的芯片生产设备使用超紫外线（EUV）光刻技术，将创造出比传统光刻技术还小20％－7％的电路。

这部通称步进机（ｓｔｅｐｐｅｒ）的芯片蚀刻机器，至少4年后才会进入商品化阶段，初期将可制造0.07微米电路的芯片。