科技日报讯（记者张兆军通讯员于万冰）让激光形成一个极小的点，在200×200×40立方毫米的范围内，或在Φ400毫米的曲面感光材料片上，写满许多微米量级的极小而复杂的图形结构，从而制造出非常高精尖的光学元件产品。这是9月下旬，中科院长春光学精密机械与物理研究所研制出的“二元光学元件激光直接写入设备”拥有的功能，它被中科院院士王大珩、母国光等科学家鉴定为：是当前标志我国高新技术设备水平的标志性设备，它在总体结构和单元技术方面均有特色，在光刻方式和对心装置方面具有创新性，在光刻范围和刻写精度方面超过国际同类设备，特别是在曲面光刻方面具有明显优势；该设备主要技术指标已达到国际最先进设备同等水平。
中科院长春光学精密机械与物理研究所自1996年2月起，开展了二元光学元件直接写入设备的研制工作，目前已实现了部分单元技术的重大创新，如可在同一设备上实现曲面直角和极坐标两种方式光刻；在200×200×40立方毫米的直角坐标范围内，实现亚微米的定位精度的激光直写光刻；在极坐标系中可在Φ400毫米曲面基片上制作元件。
目前，利用该设备研制的元件已成功应用于一些重大的国家工程，它在与光学成像有关的民用领域，如摄像机、照相机、望远镜等，以及微光机械领域等更是有着广泛的应用市场。
