集成电路制造工艺员（中级）
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作者： 邓善修 主编
出 版 社： 中国劳动社会保障出版社
出版时间： 2007-1-1字数：版次： 1页数： 160印刷时间：开本： 16开印次：纸张：I S B N ： 9787504558718包装： 平装内容简介
本书从强化培养操作技能，掌握一门实用技术的角度出发，较好地体现了本职业当前最新的实用知识与操作技术，对于提高从业人员基本素质，掌握中级集成电路制造工艺的核心知识与技能有直接的帮助和指导作用。
全书分为四个单元，主要内容包括：绪论、半导体基础知识、集成电路制造工艺和集成电路制造相关设备及操作入门等。为便于读者掌握本教材的重点内容，每一单元后附有思考题，用于检验和巩固所学知识与技能。
本教材可作为集成电路制造工艺员（国家职业资格四级）职业技能培训与鉴定考核教材，也可供中、高等职业院校相关专业师生，以及相关从业人员参加岗位培训、就业培训使用。
目录
第1单元 绪论
1.1 集成电路产业发展的历史
1.2 我国集成电路产业发展的历史和现状
思考题
第2单元 半导体基础知识
2.1 半导体物理基础知识
2.2 晶体管原理
思考题
第3单元 集成电路制造工艺
3.1 半导体衬底制备
3.2 氧化工艺
3.3 光刻工艺
3.4 掺杂工艺
3.5 淀积和刻蚀
3.6 多层金属化
3.7 工艺集成
思考题
第4单元 集成电路制造相关设备及操作入门
4.1 集成电路制造环境和安全生产
4.2 氧化工艺设备及操作入门
4.3 光刻工艺设备及操作入门
4.4 掺杂工艺设备及操作入门
4.5 淀积与刻蚀工艺设备及操作入门
4.6 金属化工艺设备及操作入门
思考题
书摘插图
第1单元 绪论
1.1 集成电路产业发展的历史
1.1.1 晶体管和集成电路的诞生
1947年圣诞节前夕，美国贝尔实验室的两位科学家巴丁（John Barden）和布莱登（Walter Brat-tain）在进行场效应晶体管的研究工作时，偶然观察到了点接触式的锗双极型晶体管的功率放大特性，他们当时并不清楚其中的奥秘。但是，他们两人的上司威廉肖克莱（William Shockley）通过圣诞节假期里的研究工作，解决了这种双极型晶体管的工作原理问题，并于1948年将研究结果公布。在贝尔实验室诞生的世界上第一个点接触式的锗双极型晶体管。
此后，肖克莱又提出了面结型双极晶体管的理论，面结型是为了区别于点接触结构而言的。由于对晶体管发明所做出的杰出贡献，巴丁、布莱登和肖克莱3人于1956年获得了诺贝尔物理学奖。
在晶体管发明之后的10年问，由于具有体积小、功耗低、速度快等特点，以锗为原料的晶体管很快地取代了真空管，特别是在高纯度的半导体单晶材料的生产技术问世后，更大大地加速了晶体管的普及应用。在整个20世纪50年代，半导体工业为大量的电子产品（如收音机、电子计算机）和许多其他民用及军用产品提供了半导体器件。
在集成电路发明以前，所有的半导体器件都是分立式的。所谓的分立式器件就是一种电子元件，如电阻、电容、二极管或晶体管等，每一个个体中只包含一个元件。1958年，美国德州仪器公司（TI公司）一位年轻的工程师杰克基尔比（Jack Kirby）注意到大多数分立式器件，如电阻、电容、二极管和晶体管等，都可以由同一种材料制成，因此有可能将这些分立式器件做在同一块半导体基片上，再将它们连接在一起组成一个电路。如此一来便可以制造出更小的电路以降低电路的成本。基尔比的第一个集成电路制作在锗条上，上面有3个电阻、1个电容和1个晶体管，他用白金线将这些器件连接在一起。
……
