集成电路制造工艺(新版)(21世纪高职高专系列教材)

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品牌: 林明祥
基本信息·出版社:机械工业出版社
·页码:255 页
·出版日期:2005年
·ISBN:7111173007
·条形码:9787111173007
·包装版本:1
·装帧:平装
·开本:16开
·丛书名:21世纪高职高专系列教材
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内容简介本书是依据高等职业教育的特点编写的,是一本将集成电路的制造工艺原理和制造技术融为一体的教材。
由于硅器件占据了微电子产品的绝大部分领域,所以本教材以硅平面工艺为主线,同时也介绍砷化镓之类其他工艺。本书共15章,介绍了硅单晶制备;外延、氧化、溅射(蒸发)、化学气相淀积等薄膜制备技术;扩散、离子注入等掺杂技术;制版、光刻、刻蚀、CAD等图形加工技术;金属化和平坦化、组装工程、产品可靠性,以及洁净技术、去离子水制备等外围加工技术。
本书适合作为高职高专电子信息技术相关专业的教材,也适合作为从事微电子专业的中高级技术工人的培训教材。
编辑推荐本书共15章,介绍了硅单晶制备;外延、氧化、溅射(蒸发)、化学气相淀积等薄膜制备技术;扩散、离子注入等掺杂技术;制版、光刻、刻蚀、CAD等图形加工技术;金属化和平坦化、组装工程、产品可靠性,以及洁净技术、去离子水制备等外围加工技术。在最后一章中还介绍了超大规模集成电路的工艺总汇。本书适合作为高职高专院校电子信息技术相关专业学生的教材,也适合作为从事微电子专业的中高级技术工人的培训教材。
目录
出版说明
前言
第1章 绪论
1.1 微电子器件工艺的发展历史
1.2 集成电路的发展历史
1.3 集成电路制造工艺实例
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