台积电申请获批上海工厂将采用0.18微米技术

王朝other·作者佚名  2008-05-21
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【eNet硅谷动力消息】3月20日,中国台湾当地主管部门已经批准了台积电的申请,允许其在中国大陆采用0.18微米技术生产芯片。有报道称,中国政府也已批准英特尔在大连投资25亿建造芯片工厂的计划。

台积电发言人曾晋皓称,最初在2005年提交的这份申请,现在已经获得”台湾政府“批准,公司将在上海的工厂采用0.18微米技术。台积电是在2004年当台湾放松在大陆进行半导体投资的限制后,建立了现在在上海的工厂。

台积电董事长张忠谋表示,在大陆采用的0.25微米生产工艺已经落后,对英特尔大陆新工厂的长期影响表示担忧。

不过0.18微米与0.25微米与当前最先进的芯片生产技术相差数代,台积电一直寻求在采用90纳米、65纳米和45纳米技术取得领先。当日在台北股市,台积电股票上涨0.29%收于69.20元新台币/股。

 
 
 
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