在上个月我们对怡敏信（Imation）公司的报道中，提及了其独有的先进金属粒子涂布技术与工艺Tera Ångstrom技术。这项技术使得怡敏信公司可以生产和发展TB级的高容量磁带介质。Tera Ångstrom技术提高磁带表面的平滑度和均匀程度，进而提高单位记录密度和轨道密度，使单盘磁带可以达到TB级的容量。
使用Tera Ångstrom技术的磁带容量是400GB或更高，怡敏信希望在接下来的10年里提供容量达多个TB的磁带。1TB的容量相当于100万MB，或者连续16天不停播放的DVD。
发展TB级磁带的驱动力来自于不断增长的存储需求，例如数据备份，数据归档，来自于石油勘探，金融，广电和政府等行业的应用。怡敏信公司研发副总裁，RICHARD WEISS讲到：“怡敏信公司致力于为用户和合作伙伴提供最好的可移动存储介质，作为这个承诺的一部分，Tera Ångstrom这项独有的技术和工艺将会成为怡敏信未来发展TB级磁带的转折点”。
传统磁带涂布技术与Tera Ångstrom技术（右）对比图
怡敏信Tera Ångstrom技术是在以下3项应用于生产中独有的技术基础上发展起来的：
1．撞击过程 10000帕斯卡的喷射力量使粒子相互撞击，使磁性粒子群分离，并把他们分解成为纳米大小的粒子，这使得磁性粒子更小，且涂层上粒子排列方向一致。
2．静态烘干 非常精细的干燥环境，利用低速气流和磁线圈使粒子精确定位——消除涂布干扰，使记录密度和存储容量最大化。
3. 在线压光过程 一系列超平滑的卷轴压平磁带表面，使磁带表面的平滑程度达到Å级（1Å等于1/10纳米，或100亿分之一米，1页纸的厚度大约是100万个Å）。这种平滑度和统一程度使单位记录密度和轨道密度增加，提高磁带容量。
“怡敏信的技术与涂布工艺，结合了针状纳米级粒子统一定位，通过带有铬合金的卷轴，使表面平滑程度达到Å级，”WEISS说，“这项独有的技术使得在金属粒子表面记录更多数据成为可能，达到1TB甚至更大容量磁带的要求。”
金属粒子是一项涂布技术，在一些现在应用广泛，且增长十分迅速的磁带存储格式上使用。下一代的金属粒子涂布技术将使每盘磁带的容量达到1TB或更大，来满足大规模存储备份，近线，离线，灾难恢复，业务连续性计划，数据归档和恢复的需求。怡敏信公司的研发机构位于明尼苏达州奥克达市，它将继续引领金属粒子涂布技术的发展，包括容量，性能和产品设计，这些可以通过怡敏信的生产设施来实现。
从原来作为3M公司的数据存储部到今天，怡敏信自1953年推出世界上第一盒数据存储磁带，已经在磁带技术方面领导全球超过50年。自从1996年脱离3M成为一家独立公司，怡敏信公司在可移动数据存储介质业务方面的研发及投资已经超过了6.3亿美元。这些举措增强了怡敏信在光磁介质上核心的制造和技术实力。今天，怡敏信继续保持在磁介质技术上的领先，为所有行业市场提供全系列的可移动存储介质。从计算机，消费电子产品，低端存储产品，到服务器，存储网络及数据中心的使用中，怡敏信都能提供相关的存储产品。
更多关于怡敏信Tera Ångstrom技术的信息，可参见www.imation.com/teraangstrom
