2009中国(无锡)国际半导体及平板显示博览会(CSF2009)10月15日-18日成功举办。来自全球半导体和平板显示产业的知名企业前来参展，集中展示了半导体、平板显示、太阳能光伏产业新的技术、装备及产品。CSF突出企业配套性，完整展现产业链，并以高水平的论坛吸引大批专业观众和听众，其中，“2009年中国(无锡)平板显示产业高峰论坛”和“2009中国(无锡)洁净工程高峰论坛”最受欢迎。本报记者注意到，在等离子和液晶加快发展的同时，新型平板显示技术如OLED(有机发光二极管)、激光显示、柔性显示和三维显示越来越受到追捧。与会专家认为，为了提升我国平板产业竞争力，平板显示必须向等离子、液晶显示上游发展，同时积极布局下一代显示技术。
抓住面板话语权
工业和信息化部电子信息司副司长丁文武在平板显示产业高峰论坛上表示，平板显示产业是电子信息领域重要的基础性产业和战略性产业，市场规模大、技术更新快、拉动效益显著，大力发展平板显示产业对确保我国彩电产业的优势和产业转型、增强电子信息产业的核心竞争力、推进整个电子信息产业转型都具有重要的意义。
他透露，下一步发展平板产业将抓住政策激励和产业链突破这两个重点。他说：“要抓紧研究出台进一步支持新型显示器件重点行业发展的鼓励政策，为产业发展创造更有利更稳定的政策环境。吸引境外有实力的平板企业来华投资设厂和合作，推动我国平板显示产业尽快上规模、上水平。”同时他提到，要打造相对完整的平板显示产业链，鼓励企业兼并重组，积极推动产业链上下游的合作，特别是彩电厂商和面板厂商的合作。
长虹在这方面带了个好头，既做等离子电视，也生产等离子屏(模组)。长虹副总裁巫英坚说，随着先锋和日立的退出，等离子模组进一步集中到松下、三星、LG等几家厂商手中。一方面，这种趋势表示产业正向纵向集中整合发展，可最大限度发挥产业规模优势；另一方面也带来不利的因素，即产业的封闭型倾向还没有打破，不利于市场和技术进一步发展。
然而长虹正在打破国外厂商在等离子屏上的垄断。据巫英坚介绍，长虹等离子项目规划总投资20亿美元，一期建设到目前已完成投资接近7亿美元。今年1月18日第一块良品屏下线，到目前为止良品率基本保持在85%，市场销售已达2万台。在产品研发上，长虹第一代模组是在韩国做的，第二代是韩国研发团队和北京研发团队联合进行的，到2010年3月将陆续导入量产，现在长虹正在绵阳建设一条中试线，第三代模组研发将在中试线上展开。
在液晶面板上，我国正向高世代进军。我国台湾交通大学教授(原瀚宇彩晶副总经理)杨界雄认为，2010年-2012年是中国大陆建面板厂的好时机，因为中国大陆经济成长所带动的液晶电视市场需求增长迅速，而且全世界大部分大面板厂商已经在中国大陆建立了LCD-TV模组组装基地，大量的模组整机一体化项目组启动。
2009中国(无锡)国际半导体及平板显示博览会(CSF2009)10月15日-18日成功举办。来自全球半导体和平板显示产业的知名企业前来参展，集中展示了半导体、平板显示、太阳能光伏产业新的技术、装备及产品。CSF突出企业配套性，完整展现产业链，并以高水平的论坛吸引大批专业观众和听众，其中，“2009年中国(无锡)平板显示产业高峰论坛”和“2009中国(无锡)洁净工程高峰论坛”最受欢迎。本报记者注意到，在等离子和液晶加快发展的同时，新型平板显示技术如OLED(有机发光二极管)、激光显示、柔性显示和三维显示越来越受到追捧。与会专家认为，为了提升我国平板产业竞争力，平板显示必须向等离子、液晶显示上游发展，同时积极布局下一代显示技术。
抓住面板话语权
工业和信息化部电子信息司副司长丁文武在平板显示产业高峰论坛上表示，平板显示产业是电子信息领域重要的基础性产业和战略性产业，市场规模大、技术更新快、拉动效益显著，大力发展平板显示产业对确保我国彩电产业的优势和产业转型、增强电子信息产业的核心竞争力、推进整个电子信息产业转型都具有重要的意义。
他透露，下一步发展平板产业将抓住政策激励和产业链突破这两个重点。他说：“要抓紧研究出台进一步支持新型显示器件重点行业发展的鼓励政策，为产业发展创造更有利更稳定的政策环境。吸引境外有实力的平板企业来华投资设厂和合作，推动我国平板显示产业尽快上规模、上水平。”同时他提到，要打造相对完整的平板显示产业链，鼓励企业兼并重组，积极推动产业链上下游的合作，特别是彩电厂商和面板厂商的合作。
长虹在这方面带了个好头，既做等离子电视，也生产等离子屏(模组)。长虹副总裁巫英坚说，随着先锋和日立的退出，等离子模组进一步集中到松下、三星、LG等几家厂商手中。一方面，这种趋势表示产业正向纵向集中整合发展，可最大限度发挥产业规模优势；另一方面也带来不利的因素，即产业的封闭型倾向还没有打破，不利于市场和技术进一步发展。
然而长虹正在打破国外厂商在等离子屏上的垄断。据巫英坚介绍，长虹等离子项目规划总投资20亿美元，一期建设到目前已完成投资接近7亿美元。今年1月18日第一块良品屏下线，到目前为止良品率基本保持在85%，市场销售已达2万台。在产品研发上，长虹第一代模组是在韩国做的，第二代是韩国研发团队和北京研发团队联合进行的，到2010年3月将陆续导入量产，现在长虹正在绵阳建设一条中试线，第三代模组研发将在中试线上展开。
在液晶面板上，我国正向高世代进军。我国台湾交通大学教授(原瀚宇彩晶副总经理)杨界雄认为，2010年-2012年是中国大陆建面板厂的好时机，因为中国大陆经济成长所带动的液晶电视市场需求增长迅速，而且全世界大部分大面板厂商已经在中国大陆建立了LCD-TV模组组装基地，大量的模组整机一体化项目组启动。
杨界雄表示，中国面板厂以8.5代为主力是正确的，在液晶电视供过于求时，可以生产显示器来分散产能。
但国内液晶面板生产所需的很多上游材料还掌握在国外厂商手中，特别是液晶玻璃基板，不过彩虹正在“破冰”。彩虹集团副总经理张少文说，彩虹玻璃基板已正式投产，先后拉制成功0.63mm和0.5mm厚度的玻璃基板。据他透露，彩虹未来大概要投资建设30条玻璃基板线，而且有可能把生产线放在珠三角、北京、天津附近。
布局新型显示技术
相对于等离子和液晶显示，OLED(有机发光二极管)、激光显示、柔性显示和三维显示等下一代显示技术则更激起人们的好奇心。
维信诺公司高级顾问万博泉说，CRT(阴极射线管)从2000年开始基本让位于平板显示器件，目前TFT(薄膜晶体管)占主宰地位，PDP(等离子显示屏)在未来5-10年之内有一个平稳发展期，OLED等新一代平板显示器市场比较看好，再往后可能是柔性显示和3D显示大展身手。
但专家也指出，目前我国发展OLED产业还存在一些问题。第一，关键材料国内不能配套，基本依赖进口；第二，高质量、低成本生产技术还需要进一步开发，大尺寸OLED技术开发和产业化与国外差距很大；第三，产业配套政策需进一步加强。
为此，万博泉建议，建设产学研结合的OLED技术创新体系。他说，应该由国家主导、企业参与，建立OLED国家工程实验室或者OLED国家工程中心，并将其建成面向全行业开放的共性技术研发、转化的平台；支持人才培养，支持企业横向和纵向的整合与合作；培养一个具有国际竞争力的领军企业，这需要出台鼓励企业发展的若干政策，包括产业布局、投融资、财政、税收、专项资金、人才等配套政策。
中科院光电研究院研究员毕勇在谈到激光显示技术的发展现状与趋势时表示，激光显示是采用激光光源的显示技术，我们常见到的太阳光、日光灯都是自发发射，而激光的发光机理是受激发射，色域更宽广，一致性好(光谱不变)。
毕勇认为，从当前到2010年左右应该是激光显示技术产业化的前期阶段，未来的产业规模能达到570亿美元。从全球来看，2005年索尼开发了激光电视，爱普生预计在2012年前后激光前投影进入家庭市场。2008年年底，激光显示技术有一个里程碑式的进展，就是三菱电器在北美市场上推出65英寸的激光电视，2009年6月美国的HDI公司推出集二维和三维于一体的100英寸激光电视。
中国激光显示技术的发展时间并不长，2001年许祖彦院士提出“激光显示”的概念；2006年中科院光电研究院开始进行激光显示工程化研究；2009年北京中视中科准备在河北唐山工业区投资建设一个围绕激光显示关键器件的生产基地。
毕勇认为，今后我国激光显示应该进一步加强技术规范，形成市场认知度，同时加强产品示范，在商务应用市场扩大影响，逐步挖掘市场需求，之后进入消费类市场，走进千家万户，形成一个大产业。
东南大学副校长王保平在谈到国家“863”计划平板显示技术重大项目和标准工作进展时说，未来显示屏的发展方向要关注柔性显示和三维显示技术。他强调，显示技术种类特别繁多，至于下一代显示技术的重点是什么，这是一个选择和决策的过程。“产业发展除了选择合适的技术，还要处理好终端产品和核心产业链的关系，这一切都离不开一个好的创新体系。”他说。
洁净技术做“后盾”
平板产业受到工艺技术和设备的制约，特别是TFT的工艺制程与集成电路相当，洁净技术尤为重要。记者从“2009中国(无锡)洁净工程高峰论坛”上了解到，随着集成电路制造技术的不断升级，全球主流厂商已经进入纳米时代，制造集成电路所需的洁净厂房的设计建造和节能创新也需要不断提升，为先进工艺产品的生产提供保障。在平板显示领域，TFT-LCD第6代到第8代生产线已经成为主流，在数万平方米的洁净厂房内实现自动化生产，也对洁净室的设计建造技术提出新的要求。今年7月1日，国家标准《电子工业 洁 净 厂 房 设 计 规 范 》(GB50472)正式实施，这是我国专门针对电子工业领域的洁净厂房设计推出的第一个国家标准，它将帮助企业优化洁净室的设计与建造。
在本次高峰论坛上，来自国内领先的洁净室设计建造企业和集成电路、平板显示器制造企业的专家向与会各界人士介绍了洁净室领域的最新技术与成功案例。
据国家标准《电子工业洁净厂厂房设计规范》主编陈霖新介绍，45nm极大规模集成电路生产要求控制洁净室的空气洁净度为ISO1级或2级，控制微粒粒径为0.03μm。随着集成度的不断提高，加工尺寸日益微细化，这不仅要求达到十分严格的空气洁净度等级标准，而且要确保在整个产品生产过程中，微粒不黏附在芯片上、芯片不受化学污染物的污染、芯片表面不受损伤。
“电子洁净厂房的施工特点是造价贵、工期短、品质要求高、复杂度和整合度高。”中国电子系统工程公司第二建设有限公司总工程师施红平在演讲中表示，“对于洁净厂房的施工而言，必须克服高空作业、大面积精度控制和全过程洁净施工控制等难题。”
中芯国际上海厂务处资深经理陈玉峰则强调：“气态分子级污染物(AMC)是危害生产工艺并导致成品率降低的分子态化学物质，会在半导体制造多个关键工艺上造成各种危害，影响产品质量。随着半导体制造技术的发展，对AMC的控制将越来越严格。而单一的采用化学过滤器去除AMC的控制方法受许多条件的限制，并且会大幅提高运行成本。因此应该从设计选址、设备选型、改进工艺流程等多方面进行考虑。”
(责任编辑：GH)
杨界雄表示，中国面板厂以8.5代为主力是正确的，在液晶电视供过于求时，可以生产显示器来分散产能。
但国内液晶面板生产所需的很多上游材料还掌握在国外厂商手中，特别是液晶玻璃基板，不过彩虹正在“破冰”。彩虹集团副总经理张少文说，彩虹玻璃基板已正式投产，先后拉制成功0.63mm和0.5mm厚度的玻璃基板。据他透露，彩虹未来大概要投资建设30条玻璃基板线，而且有可能把生产线放在珠三角、北京、天津附近。
布局新型显示技术
相对于等离子和液晶显示，OLED(有机发光二极管)、激光显示、柔性显示和三维显示等下一代显示技术则更激起人们的好奇心。
维信诺公司高级顾问万博泉说，CRT(阴极射线管)从2000年开始基本让位于平板显示器件，目前TFT(薄膜晶体管)占主宰地位，PDP(等离子显示屏)在未来5-10年之内有一个平稳发展期，OLED等新一代平板显示器市场比较看好，再往后可能是柔性显示和3D显示大展身手。
但专家也指出，目前我国发展OLED产业还存在一些问题。第一，关键材料国内不能配套，基本依赖进口；第二，高质量、低成本生产技术还需要进一步开发，大尺寸OLED技术开发和产业化与国外差距很大；第三，产业配套政策需进一步加强。
为此，万博泉建议，建设产学研结合的OLED技术创新体系。他说，应该由国家主导、企业参与，建立OLED国家工程实验室或者OLED国家工程中心，并将其建成面向全行业开放的共性技术研发、转化的平台；支持人才培养，支持企业横向和纵向的整合与合作；培养一个具有国际竞争力的领军企业，这需要出台鼓励企业发展的若干政策，包括产业布局、投融资、财政、税收、专项资金、人才等配套政策。
中科院光电研究院研究员毕勇在谈到激光显示技术的发展现状与趋势时表示，激光显示是采用激光光源的显示技术，我们常见到的太阳光、日光灯都是自发发射，而激光的发光机理是受激发射，色域更宽广，一致性好(光谱不变)。
毕勇认为，从当前到2010年左右应该是激光显示技术产业化的前期阶段，未来的产业规模能达到570亿美元。从全球来看，2005年索尼开发了激光电视，爱普生预计在2012年前后激光前投影进入家庭市场。2008年年底，激光显示技术有一个里程碑式的进展，就是三菱电器在北美市场上推出65英寸的激光电视，2009年6月美国的HDI公司推出集二维和三维于一体的100英寸激光电视。
中国激光显示技术的发展时间并不长，2001年许祖彦院士提出“激光显示”的概念；2006年中科院光电研究院开始进行激光显示工程化研究；2009年北京中视中科准备在河北唐山工业区投资建设一个围绕激光显示关键器件的生产基地。
毕勇认为，今后我国激光显示应该进一步加强技术规范，形成市场认知度，同时加强产品示范，在商务应用市场扩大影响，逐步挖掘市场需求，之后进入消费类市场，走进千家万户，形成一个大产业。
东南大学副校长王保平在谈到国家“863”计划平板显示技术重大项目和标准工作进展时说，未来显示屏的发展方向要关注柔性显示和三维显示技术。他强调，显示技术种类特别繁多，至于下一代显示技术的重点是什么，这是一个选择和决策的过程。“产业发展除了选择合适的技术，还要处理好终端产品和核心产业链的关系，这一切都离不开一个好的创新体系。”他说。
洁净技术做“后盾”
平板产业受到工艺技术和设备的制约，特别是TFT的工艺制程与集成电路相当，洁净技术尤为重要。记者从“2009中国(无锡)洁净工程高峰论坛”上了解到，随着集成电路制造技术的不断升级，全球主流厂商已经进入纳米时代，制造集成电路所需的洁净厂房的设计建造和节能创新也需要不断提升，为先进工艺产品的生产提供保障。在平板显示领域，TFT-LCD第6代到第8代生产线已经成为主流，在数万平方米的洁净厂房内实现自动化生产，也对洁净室的设计建造技术提出新的要求。今年7月1日，国家标准《电子工业 洁 净 厂 房 设 计 规 范 》(GB50472)正式实施，这是我国专门针对电子工业领域的洁净厂房设计推出的第一个国家标准，它将帮助企业优化洁净室的设计与建造。
在本次高峰论坛上，来自国内领先的洁净室设计建造企业和集成电路、平板显示器制造企业的专家向与会各界人士介绍了洁净室领域的最新技术与成功案例。
据国家标准《电子工业洁净厂厂房设计规范》主编陈霖新介绍，45nm极大规模集成电路生产要求控制洁净室的空气洁净度为ISO1级或2级，控制微粒粒径为0.03μm。随着集成度的不断提高，加工尺寸日益微细化，这不仅要求达到十分严格的空气洁净度等级标准，而且要确保在整个产品生产过程中，微粒不黏附在芯片上、芯片不受化学污染物的污染、芯片表面不受损伤。
“电子洁净厂房的施工特点是造价贵、工期短、品质要求高、复杂度和整合度高。”中国电子系统工程公司第二建设有限公司总工程师施红平在演讲中表示，“对于洁净厂房的施工而言，必须克服高空作业、大面积精度控制和全过程洁净施工控制等难题。”
中芯国际上海厂务处资深经理陈玉峰则强调：“气态分子级污染物(AMC)是危害生产工艺并导致成品率降低的分子态化学物质，会在半导体制造多个关键工艺上造成各种危害，影响产品质量。随着半导体制造技术的发展，对AMC的控制将越来越严格。而单一的采用化学过滤器去除AMC的控制方法受许多条件的限制，并且会大幅提高运行成本。因此应该从设计选址、设备选型、改进工艺流程等多方面进行考虑。”
(责任编辑：GH)
