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　　分類: 图书,科技,化学工业,合成树脂与塑料工业,
　　品牌: 唐伟忠

基本信息·出版社：冶金工业出版社

·页码：323 页

·出版日期：2003年

·ISBN：7502430970

·条形码：9787502430979

·包装版本：2版

·装帧：平装

·开本：32

·正文语种：中文

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内容简介本书以薄膜材料为中心，系统地介绍了薄膜技术中常用的真空技术基础知识，各种物理和化学气相沉积技术和方法，薄膜材料的形核及生长理论，薄膜材料微观结构的形成以及薄膜材料的厚度、微观结构和成分的表征方法等。在此基础上，本书还有选择地讨论了薄膜材料在力学、光电子学、磁学等领域的典型应用实例，其中涉及各种机械防护涂层、金刚石膜、光电子器件、集成光学器件、磁记录及光记录介质材料等技术。

本书可作为高等学校材料、物理及相关专业本科生、研究生及老师的教学参考书，也可供从事薄膜材料制备、研究的工程技术人员参考

目录

1 薄膜制备的真空技术基础

1.1 气体分子运动论的基本概念

1.2 气体的流动状态和真空抽速

1.3 真空泵简介

1.4 真空的测量

参考文献

2 薄膜的物理气相沉积（Ⅰ）——蒸发法

2.1 物质的热蒸发

2.2 薄膜沉积的厚度均匀性和纯度

2.3 真空蒸发装置

参考文献

3 薄膜的物理气相沉积（Ⅱ）——溅射法及其他PVD方法

3.1 气体放电现象与等离子体

3.2 物质的溅射现象

3.3 溅射沉积装置

3.4 其他物理气相沉积方法

参考文献

4 薄膜的化学气相沉积

4.1 化学气相沉积反应的类型

4.2 化学气相沉积过程的热力学

4.3 化学气相沉积过程的动力学

4.4 CVD薄膜沉积过程的数值模拟

4.5 化学气相沉积装置

4.6 等离子体辅助化学气相沉积技术

参考文献

5 薄膜的生长过程和薄膜结构

5.1 薄膜生长过程概述

5.2 新相的自发形核理论

5.3 薄膜的非自发形核理论

5.4 连续薄膜的形成

5.5 薄膜生长过程与薄膜结构

5.6 非晶薄膜

5.7 薄膜结构

5.8 薄膜的外延生长

5.9 薄膜中的应力和薄膜的附着力

参考文献

6 薄膜材料的表征方法

7 薄膜材料及其应用

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