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　　分類: 图书,电子与通信,微电子学、集成电路（IC）,
　　品牌: 李薇薇

基本信息·出版社：化学工业出版社

·页码：257 页

·出版日期：2007年

·ISBN：7502595201

·条形码：9787502595203

·包装版本：第1版

·装帧：平装

·开本：16开

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内容简介为了使相关读者更深入了解掌握微电子工艺技术的原理，本书前部分主要介绍了集成电路制备工艺中有关的物理、化学知识，第4章至第10章是全书重点，介绍了工艺过程、工艺设备以及IC制备中的新技术、新方法。全书共分10章，主要内容涉及半导体硅材料及化合物的化学性质，高纯水的制备，清洗技术，氧化、扩散、刻蚀、制版、外延、金属化处理、电子封装等主要工艺的原理等。

本书可作为高等院校相关专业的教材，也可作为教师和研究生的参考用书，同时也能供广大从事微电子相关领域的工程技术人员参考。

编辑推荐为了使相关读者更深入了解掌握微电子工艺技术的原理，本书前部分主要介绍了集成电路制备工艺中有关的物理、化学知识，第4章至第10章是全书重点，介绍了工艺过程、工艺设备以及IC制备中的新技术、新方法。全书共分10章，主要内容涉及半导体硅材料及化合物的化学性质，高纯水的制备，清洗技术，氧化、扩散、刻蚀、制版、外延、金属化处理、电子封装等主要工艺的原理等。

本书可作为高等院校相关专业的教材，也可作为教师和研究生的参考用书，同时也能供广大从事微电子相关领域的工程技术人员参考。

目录

1 硅材料及硅化合物化学性质

1.1 硅单晶的化学性质

1.2 硅化合物的化学性质

1.3 高纯硅制备的化学原理

参考文献

2 微电子技术中的高纯水制备

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